Khối ph?nguyên t?Plasma (ICP-MS) – Công ty TNHH TM DV KT Minh Khang //vospan.com Tue, 28 Nov 2023 16:28:35 +0000 vi hourly 1 //wordpress.org/?v=6.1.4 //vospan.com/wp-content/uploads/2021/02/favicon-32x32.png Khối ph?nguyên t?Plasma (ICP-MS) – Công ty TNHH TM DV KT Minh Khang //vospan.com 32 32 Khối ph?nguyên t?Plasma (ICP-MS) – Công ty TNHH TM DV KT Minh Khang //vospan.com/san-pham/dong-plasmaquant-ms-thiet-bi-khoi-pho-nguyen-tu-plasma-icp-ms/ Tue, 28 Nov 2023 16:27:12 +0000 //vospan.com/?post_type=product&p=10320 ICP-MS phù hợp với yêu cầu của khách hàng
  • Đ?nhạy ?1500 Mcps/ppm ?mức <2 % CeO
  • Tiết kiệm chi phí ?tiêu th?một nửa lượng argon
  • Nhanh ?thông lượng mẫu cao hơn 50%
  • Mạnh m?- ổn định lâu dài không ph?thuộc vào nền mẫu
  • Đa năng - được tối ưu hóa cho nghiên cứu và s?dụng thường quy
]]>

Thiết b?khối ph?nguyên t?Plasma (ICP-MS) là phương pháp tiêu chuẩn phân tích linh hoạt, nhạy và nhanh chóng trong các lĩnh vực ứng dụng khác nhau. Với dòng PlasmaQuant MS, Analytik Jena cung cấp ICP-MS vượt trội v?đ?tin cậy, đ?chính xác và công suất, đồng thời đáp ứng mọi yêu cầu v?x?lý mẫu, đ?bền và tuân th?

Đ?nhạy và hiệu qu?/strong>

Mức đ?nhạy độc đáo của PlasmaQuant MS mang đến những lợi th?phân tích được phản ánh rõ ràng v?hiệu qu?và chi phí trên mỗi mẫu thấp hơn. Thiết k?máy quang ph?được cấp bằng sáng ch?của h?thống ICP-MS cung cấp giới hạn phát hiện thấp nhất và chất lượng phân tích ổn định trong thời gian tích hợp cực ngắn và h?s?pha loãng cao. Điều này đảm bảo công suất cao, đ?ổn định lâu dài và kết qu?có th?lặp lại, đồng thời giảm đáng k?chi phí bảo trì của bạn.

  • Khoảng phát hiện tốt nhất
  • Thông lượng cao
  • Giảm việc chuẩn b?mẫu
  • Hiệu suất mạnh m?/li>
  • Yêu cầu bảo trì thấp

Hiệu suất cao và chi phí vận hành thấp

Với những thiết b?mạnh m?và đáng tin cậy này, các phòng thí nghiệm có th?đáp ứng những thách thức hiện tại v?việc tăng lượng mẫu hoặc giảm thời gian đo mà không làm mất đi đ?chính xác và đ?tái lập phân tích cao.

Kh?năng phân tích tốt

Kh?năng phân tích khối lượng tốt với đ?nhạy lên tới 1500 Mcps/ppm ?mức <2% CeO đối với các đồng v?có đ?ph?biến thấp cho phép phát hiện nồng đ?nguyên t?cực thấp, nồng đ?loại nguyên t?thấp và các hạt đơn l?có đường kính dưới 5 nm, cũng như cung cấp đ?chính xác cao trong việc xác định t?l?đồng v?

Công suất mẫu cao nhất

Trong nhiều ứng dụng, tốc đ?phân tích cũng quan trọng như cường đ?phát hiện và đ?chính xác. Công suất mẫu cao hơn giúp giảm đáng k?chi phí cho mỗi mẫu. Đ?nhạy cao của PlasmaQuant MS và lợi th?v?đ?chính xác mang lại, giúp đạt được năng suất mẫu cao nhất trên th?trường ICP-MS với tốc đ?lên tới 80 mẫu mỗi gi?

Ngọn lửa plasma mạnh m?/strong>

Thiết b?ICP-MS mang lại đ?bền, đ?ổn định cao cho ngọn lửa plasma trong thời gian dài. Điều này đảm bảo đặc tính đáng tin cậy cũng như giảm thiểu đ?lệch được giảm thiểu khi có s?thay đổi nền mẫu.

Chi phí hợp lý

So với các thiết b?khác trên th?trường, h?thống ICP-MS tiêu th?khí argon ít hơn tới 50%, tức là khoảng 10 l/phút. Chúng cũng giúp giảm tới 50% chi phí vận hành plasma. S?kết hợp giữa cường đ?phát hiện, tốc đ? giảm mức tiêu th?argon và công suất cao giúp giảm đáng k?chi phí trên mỗi mẫu. Ngoài ra, thiết k?của h?thống dạng m?đảm bảo kh?năng tiếp cận d?dàng và độc lập – giảm yêu cầu bảo trì.

]]>